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第一八二八章 大家都在等待

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“阿密特先生,bSEc将在本周内向全球公开宣布,研发成功45nm制程的浸没式光刻机3360i,并向中国专利局和世界专利局同时申请公司发明专利,计划7月下旬量产,到时会邀请阿密特先生和阿尔特曼先生来公司参观指导!”

孙健料到精明的阿密特和阿尔特曼参观完dSp-100干式光刻机后,都会给他打电话。

阿密特是Intel投资部部长,阿尔特曼是Amd投资部部长,两饶工作核心是统筹公司对外投资、并购及资本运作,为公司筛选优质项目,把控投资风险,最终实现资产增值与战略落地。

两人率领的团队最后对公司是否采购dSp-100干式光刻机提供投资分析报告。

以公司执行总裁为首的管理层根据投资部提供的投资分析报告制定投资方案,交给董事会开会决定,再由出席股东大会有代表权的股东投票表决。

根据《公司法》规定,公司重大投资决定需要经出席股东会议的股东所持表决权过半数通过,形成决议,董事长签字,交给执行总裁,负责采购的副总裁交给采购部部长,派人采购。

一条20亿美元半导体生产线的投资对任何一家晶圆公司都不是数目,投资失误就会造成公司业绩下降或亏损,投资者用脚投票,公司股价下跌,最后需要一批人承担投资失误责任。

阿密特和阿尔特曼都没有采购决定权,但两人负责撰写的投资分析报告对公司是否采购dSp-100干式光刻机有很大的影响。

Intel晶圆公司和Amd晶圆公司采购dSp-100干式光刻机,新建一条45nm制程半导体生产线,需要在光刻胶类型及涂布方式等方面做作出调整,习惯了浸润式光刻机生产线的工程师们需要较长的时间才能适应,影响良品率,不到万不得已,Intel和Amd晶圆公司不会轻易更换干式光刻机。

这也是dSp-100干式光刻机的一大缺陷!

尼康公司也知道bSEc、GcA和ASmL都在研发45nm制程浸润式光刻机,特别是全球第一家研发成功65nm制程浸润式光刻机的bSEc,研发45nm制程浸润式光刻机的实力最强!但尼康公司不会想到,3360i已被研发成功一年多,配备升级的磁悬浮式双工作台系统,在专业实验室内经过升级改造,产品性能更加稳定,需要的生产材料早已备齐,随时可以量产。

全球第一台45nm制程的dSp-100干式光刻机在尼康公司诞生,日本半导体企业联合投资建设全球第一条45nm制程的半导体生产线,率先占据全球晶圆生产的最高点,引领全球半导体产业的发展,在全球光刻机行业和晶圆生产行业都产生了巨大的轰动。

孙健没有料到,邓国辉和钱富强等院士们也没有料到。

尼康公司邀请了Intel、Amd、台积电、联电、三星等全球晶圆大厂参观dSp-100干式光刻机,pGcA和ttFAb也在被邀请之粒

pGcA中方副总经理张洪海和ttFAb中方副总经理李开军应邀前往日本尼康公司参观。

孙健从张洪海的电话中得知,dSp-100干式光刻机没有相匹配的双工作台系统,3500万美元一台。

当年制定tINScAN Nxt:2230i的价格时,孙健决定1500万美元一台,同尼康公司相比,还是太善良了!

在占得先机的情况下,尼康公司肯定要大赚一笔,起码要将这些年的研发经费赚回来。

无可非议!

尼康公司cEo森佳照明也明白,一旦bSEc、GcA和ASmL的45nm制程的浸润式光刻机问世,dSp-100干式光刻机就没有竞争优势了。

“恭喜孙先生,请问贵公司的3360i定价多少?”

阿密特向阿尔特曼打出oK的手势,两人原以为bSEc会晚几个月研发成功45nm制程浸没式光刻机,也无所谓,先开工基建,明年再安装设备。

在GcA和bSEc之间,阿密特和阿尔特曼会选择GcA光刻机;在bSEc和Nikon之间,他们会选择bSEc光刻机,这里面有公司利益考量,还有国家利益在里面;在国家利益和公司利益之间选择,他们会选择公司利益,实现股东利益最大化。

美国半导体行业都知道,日本为了打败美国,重新成为全球半导体产业的老大,由日本通商产业省牵头,政府出钱,日本各大科研院所和半导体公司联合,在国家层面,制定了日本半导体产业长中短期发展规划,先后成立了半导体前沿技术联盟(SELEtE)、日本超先进电子技术协会(ASEt)、下一代半导体曝光工艺基础技术开发(mIRAI)和极紫外光刻系统开发协会(EUVA),举国之力,从1998年就启动了EUV技术研究项目,希望赶在美国GcA EUV公司之前,实现EUV光刻技术的商业化。

在EUV LLc联盟通过两年的研究,验证EUV光刻机的技术可行性后,2002年1月,由GcA出资5亿美元,成立一家GcA EUV光刻机股份有限责任公司,邀请Intel、Amd、Ibm、hp、tI、摩托罗拉、蔡司公司、cymer、台积电和三星等二十多家公司参加,筹资50亿美元,共同研发EUV技术。

EUV LLc联盟中除了GcA、Intel和牵头的美国能源部以外,还有摩托罗拉、Amd、Ibm,以及能源部下属三大国家实验室:劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。

美国半导体行业都不愿意看到由Nikon和canon主导的EUV研究走在GcA EUV的前面。

“阿密特先生,3360i的研发成本要高一些,初步定价2000万美元,阿密特先生和阿尔特曼先生是老朋友,我做主打八五折!”

光刻机是个高投入高收益的行业,谁的技术领先,谁就能拿到高额利润。

“多谢孙先生!”

阿密特和阿尔特曼就不需要考虑dSp-100干式光刻机了,打道回府,向董事长汇报。

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“原田弘树先生,多谢热情款待,我们回去向公司报告,最后由公司决定;原田弘树先生再见!”

第二,阿密特向负责接待的常务副总裁原田弘树告辞。

“阿密特先生再见!”

原田弘树一脸郁闷,阿尔特曼一行人刚离开不久;昨下午,pGcA和ttFAb的应邀贵宾一起离开了,这次招待会到如今还没有拿到一台dSp-100干式光刻机的订单和意向,似乎大家都在等待。

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